Eiffelturm 2011 Mit Logo Klein 3D-Laserlithographie (direkte Laserschreibung), entwickelt und vermarktet durch das Unternehmen Nanoscribe GmbH. Hierbei handelt es sich um ein neuartiges Verfahren photosensitive Materialen per stark fokussierten, ultrakurzen Laserimpulsen in drei Raumdimensionen zu belichten. Abhängig von der Beschaffenheit des belichteten Werkstoffs (z. B. SU-8, Ormocer®, PDMS, chalcogenide Gläser) werden in einem nachfolgenden Entwicklerprozess die unbelichteten oder belichteten Bereiche herausgelöst. Diese lassen sich als dreidimensionale, freitragende Objekte mit Strukturgrößen im Nano- und Mikrometerbereich in der Mikrooptik, der Mikrofluidik oder in den Biowissenschaften zur Anwendung bringen. Das Verfahren ermöglicht standardmäßig Linienbreiten von kleiner 150 nm. Dabei sind Schreibtiefen von bis zu 300 µm auf einer Fläche von maximal 100 x 100 mm² realisierbar. Die Strukturformen sind beliebig gestaltbar und können z. B. über eine CAD-Software entworfen werden.

 
 
 
Nanoscribe3dstruktur2 3D Zellbiologie Ein Beispiel für die Anwendung mittels 3D Laserlithographie hergestellter Objekte sind Gerüstsubstrate für biologische Zellkulturen. Der Vorteil gegenüber anderen Herstellungsverfahren ist die Reproduzierbarkeit und zielgenaue Einstellung des Designs und der Materialeigenschaften der Gerüststrukturen. Diese dienen beispielsweise dazu, das Bewegungs- und Differenzierungsverhalten von Zellen in Abhängigkeit von der räumlichen Beschaffenheit ihrer physischen Umgebung zu untersuchen. Forschungsarbeiten auf diesem Gebiet widmen sich u. a. dem Verständnis biophysikalischer Prozesse während der Wundheilung, der Immunabwehr oder bei der Tumorentstehung ::: >>>